CZ-Si単結晶中の酸化物析出と酸化誘起積層欠陥に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
資料に関する注記
一般注記:
論文目録
目次
p1
第1章 序論
第2章 低温(700-900℃)熱処理による酸素析出物の形態と成長過程
p8
2-1 序(従来の研究と問題点)
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