Radical kinetics and its control in chemical vapor deposition of amorphous, microcrystalline and polycrystalline silicon thin films

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Radical kinetics and its control in chemical vapor deposition of amorphous, microcrystalline and polycrystalline silicon thin films
• 著者・編者: 白藤立 [著]
• 著者標目: 白藤, 立 シラフジ, タツル
• 並列タイトル等: アモルファス, 微結晶および多結晶シリコン薄膜の化学気相堆積におけるラジカル反応過程とその制御に関する研究 アモルファス , ビケッショウ オヨビ タケッショウ シリコン ハクマク ノ カガク キソウ タイセキ ニ オケル ラジカル ハンノウ カテイ ト ソノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 京都大学
• 授与年月日: 平成10年1月23日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1998
• 報告番号: 乙第9750号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-98-C204
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000318432; http://id.ndl.go.jp/bib/000000318432
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

Contents

Abstract

Acknowledgments

1.Introduction