Radical kinetics and its control in chemical vapor deposition of amorphous, microcrystalline and polycrystalline silicon thin films

• Material Type: 博士論文
• Title: Radical kinetics and its control in chemical vapor deposition of amorphous, microcrystalline and polycrystalline silicon thin films
• Author/Editor: 白藤立 [著]
• Author Heading: 白藤, 立 シラフジ, タツル
• Alternative Title: アモルファス, 微結晶および多結晶シリコン薄膜の化学気相堆積におけるラジカル反応過程とその制御に関する研究 アモルファス , ビケッショウ オヨビ タケッショウ シリコン ハクマク ノ カガク キソウ タイセキ ニ オケル ラジカル ハンノウ カテイ ト ソノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 京都大学
• Date Granted: 平成10年1月23日
• Date Granted (W3CDTF): 1998
• Dissertation Number: 乙第9750号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-98-C204
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000318432; http://id.ndl.go.jp/bib/000000318432
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

Contents

Abstract

Acknowledgments

1.Introduction