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シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価に関する研究

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シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-98-K13
国立国会図書館書誌ID
000000322080
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3136891
資料種別
博士論文
著者
山口正樹 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
芝浦工業大学,博士 (工学)
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目次

  • 目次

    p1

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 本研究の背景

    p1

  • 1.2 強誘電体薄膜メモリ

    p6

  • 1.3 酸化物強誘電体薄膜

    p10

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
シリコン キバンジョウ エ ノ チタンサン ビスマス ハクマク ノ ケイセイ ト ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
山口正樹 [著]
著者標目
山口, 正樹 ヤマグチ, マサキ
授与機関名
芝浦工業大学
授与年月日
平成10年3月18日
授与年月日(W3CDTF)
1998
報告番号
甲第4号
学位
博士 (工学)