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博士論文

シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価に関する研究

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国立国会図書館デジタルコレクション

シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-98-K13
Bibliographic ID of National Diet Library
000000322080
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3136891
Material type
博士論文
Author
山口正樹 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
芝浦工業大学,博士 (工学)
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博士論文

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  • 目次

    p1

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 本研究の背景

    p1

  • 1.2 強誘電体薄膜メモリ

    p6

  • 1.3 酸化物強誘電体薄膜

    p10

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価に関する研究
Title Transcription
シリコン キバンジョウ エ ノ チタンサン ビスマス ハクマク ノ ケイセイ ト ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
山口正樹 [著]
Author Heading
山口, 正樹 ヤマグチ, マサキ
Degree grantor/type
芝浦工業大学
Date Granted
平成10年3月18日
Date Granted (W3CDTF)
1998
Dissertation Number
甲第4号
Degree Type
博士 (工学)