Studies on fluorocarbon plasma chemistry in an electron cyclotron resonance etching system

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on fluorocarbon plasma chemistry in an electron cyclotron resonance etching system
• 著者・編者: 宮田幸児 [著]
• 著者標目: 宮田, 幸児 ミヤタ, コウジ
• 並列タイトル等: 電子サイクロトロン共鳴エッチングシステムにおけるフッ化炭素プラズマ化学に関する研究 デンシ サイクロトロン キョウメイ エッチング システム ニ オケル フッカ タンソ プラズマ カガク ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成10年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1998
• 報告番号: 甲第4069号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-98-L430
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000323045; http://id.ndl.go.jp/bib/000000323045
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

1 Introduction

1.1 Fluorocarbon plasma etching of SiO₂ and Si₃N₄

1.2 Problems in previous studies on fluorocarbon plasma chemistries

1.3 Purpose and overview of this thesis