本文に飛ぶ
博士論文

次世代超LSI用多層配線材料に関する研究

博士論文を表すアイコン
表紙は所蔵館によって異なることがあります ヘルプページへのリンク

次世代超LSI用多層配線材料に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-98-R95
国立国会図書館書誌ID
000000325706
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3140514
資料種別
博士論文
著者
中野正 [著]
出版者
-
授与年月日
平成8年6月13日
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与機関名・学位
東京大学,博士 (工学)
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

博士論文

書店で探す

障害者向け資料で読む

目次

提供元:国立国会図書館デジタルコレクションヘルプページへのリンク
  • 目次

    p1

  • 1.SOG関連

    p10

  • 2.O₃-TEOS APCVD関連

    p10

  • 3.銅配線用バリアメタル

    p11

  • 4.その他:絶縁膜の評価技術

    p11

障害者向け資料で読む

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
ジセダイ チョウLSIヨウ タソウ ハイセン ザイリョウ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
中野正 [著]
著者標目
中野, 正 ナカノ, タダシ
授与機関名
東京大学
授与年月日
平成8年6月13日
授与年月日(W3CDTF)
1996
報告番号
乙第12913号
学位
博士 (工学)