Chemical vapor deposition of SiO[2] and (Ba,Sr)TiO[3] films and their application to electronic devices

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Chemical vapor deposition of SiO[2] and (Ba,Sr)TiO[3] films and their application to electronic devices
• 著者・編者: 川原孝昭 [著]
• 著者標目: 川原, 孝昭 カワハラ, タカアキ
• 並列タイトル等: CVD法によるSiO[2]及び (Ba,Sr)TiO[3]薄膜の形成と電子デバイスへの応用 CVDホウ ニ ヨル SiO2 オヨビ (Ba,Sr)TiO3 ハクマク ノ ケイセイ ト デンシ デバイス エ ノ オウヨウ
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成9年3月17日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1997
• 報告番号: 乙第13294号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-98-R476
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000326087; http://id.ndl.go.jp/bib/000000326087
• 整理区分コード: 213

目次

要旨

CONTENTS

1.Introduction

1.1 Chemical vapor deposition of SiO₂ films

1.2 Chemical vapor deposition of(Ba,Sr)TiO₃ films