Chemical vapor deposition of SiO[2] and (Ba,Sr)TiO[3] films and their application to electronic devices

• Material Type: 博士論文
• Title: Chemical vapor deposition of SiO[2] and (Ba,Sr)TiO[3] films and their application to electronic devices
• Author/Editor: 川原孝昭 [著]
• Author Heading: 川原, 孝昭 カワハラ, タカアキ
• Alternative Title: CVD法によるSiO[2]及び (Ba,Sr)TiO[3]薄膜の形成と電子デバイスへの応用 CVDホウ ニ ヨル SiO2 オヨビ (Ba,Sr)TiO3 ハクマク ノ ケイセイ ト デンシ デバイス エ ノ オウヨウ
• Degree grantor/type: 東京大学
• Date Granted: 平成9年3月17日
• Date Granted (W3CDTF): 1997
• Dissertation Number: 乙第13294号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-98-R476
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000326087; http://id.ndl.go.jp/bib/000000326087
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

要旨

CONTENTS

1.Introduction

1.1 Chemical vapor deposition of SiO₂ films

1.2 Chemical vapor deposition of(Ba,Sr)TiO₃ films