Development of photoresist materials based on calixarenes

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Development of photoresist materials based on calixarenes
• 著者・編者: 中山寛晴 [著]
• 著者標目: 中山, 寛晴 ナカヤマ, トモナリ
• 並列タイトル等: カリックスアレンを用いたフォトレジスト材料の開発 カリックスアレン オ モチイタ フォトレジスト ザイリョウ ノ カイハツ
• 授与機関名: 山形大学
• 授与年月日: 平成11年3月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 甲第349号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文; 本タイトル (誤植) : Development of phototresist materials based on calixarenes
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-99-Q91
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000339552; http://id.ndl.go.jp/bib/000000339552
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

Chapter1 General Introduction

1.1.Background for the development of photoresists

1.2.Polymer Matrix for Photoresist

1.3.Calixarene matrix for photoresist