Development of photoresist materials based on calixarenes

• Material Type: 博士論文
• Title: Development of photoresist materials based on calixarenes
• Author/Editor: 中山寛晴 [著]
• Author Heading: 中山, 寛晴 ナカヤマ, トモナリ
• Alternative Title: カリックスアレンを用いたフォトレジスト材料の開発 カリックスアレン オ モチイタ フォトレジスト ザイリョウ ノ カイハツ
• Degree grantor/type: 山形大学
• Date Granted: 平成11年3月31日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第349号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文; 本タイトル (誤植) : Development of phototresist materials based on calixarenes
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-Q91
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000339552; http://id.ndl.go.jp/bib/000000339552
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

Chapter1 General Introduction

1.1.Background for the development of photoresists

1.2.Polymer Matrix for Photoresist

1.3.Calixarene matrix for photoresist