シリコン熱酸化膜の評価およびナノ構造形成への応用
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 序論
p1
1.1 シリコン熱酸化膜と半導体デバイス
p1
1.2 シリコン酸化膜の構造と評価技術
p3
1.3 SiO₂/Si界面構造と熱酸化機構
p4
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- シリコン ネツ サンカマク ノ ヒョウカ オヨビ ナノ コウゾウ ケイセイ エ ノ オウヨウ
- 著者・編者
- 宮田典幸 [著]
- 著者標目
- 宮田, 典幸 ミヤタ, ノリユキ
- 授与機関名
- 武蔵工業大学
- 授与年月日
- 平成11年5月13日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 乙第48号
- 学位
- 博士 (工学)