シリコン熱酸化膜の評価およびナノ構造形成への応用
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Table of Contents
目次
p1
第1章 序論
p1
1.1 シリコン熱酸化膜と半導体デバイス
p1
1.2 シリコン酸化膜の構造と評価技術
p3
1.3 SiO₂/Si界面構造と熱酸化機構
p4
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- シリコン ネツ サンカマク ノ ヒョウカ オヨビ ナノ コウゾウ ケイセイ エ ノ オウヨウ
- Author/Editor
- 宮田典幸 [著]
- Author Heading
- 宮田, 典幸 ミヤタ, ノリユキ
- Degree grantor/type
- 武蔵工業大学
- Date Granted
- 平成11年5月13日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 乙第48号
- Degree Type
- 博士 (工学)