シリコン熱酸化膜の評価およびナノ構造形成への応用

• Material Type: 博士論文
• Title: シリコン熱酸化膜の評価およびナノ構造形成への応用
• Title Transcription: シリコン ネツ サンカマク ノ ヒョウカ オヨビ ナノ コウゾウ ケイセイ エ ノ オウヨウ
• Author/Editor: 宮田典幸 [著]
• Author Heading: 宮田, 典幸 ミヤタ, ノリユキ
• Degree Grantor: 武蔵工業大学
• Date Granted: 平成11年5月13日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第48号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-Q495
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000339956; http://id.ndl.go.jp/bib/000000339956
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 シリコン熱酸化膜と半導体デバイス

1.2 シリコン酸化膜の構造と評価技術

1.3 SiO₂/Si界面構造と熱酸化機構