反応性プラズマとイオンビームによる窒化炭素薄膜作製に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 反応性プラズマとイオンビームによる窒化炭素薄膜作製に関する研究
• タイトルよみ: ハンノウセイ プラズマ ト イオン ビーム ニ ヨル チッカ タンソ ハクマク サクセイ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 陳潤植 [著]
• 著者標目: 陳, 潤植 ジン, ユンシク
• 並列タイトル等: Studies on the formation of carbon nitride thin films using reactive plasma and ion beam
• 授与機関名: 長崎大学
• 授与年月日: 平成11年3月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 博 (海) 甲第164号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-99-R788
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000341031; http://id.ndl.go.jp/bib/000000341031
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景と目的

1.2 窒化炭素薄膜に関する研究の現状