反応性プラズマとイオンビームによる窒化炭素薄膜作製に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 反応性プラズマとイオンビームによる窒化炭素薄膜作製に関する研究
• Title Transcription: ハンノウセイ プラズマ ト イオン ビーム ニ ヨル チッカ タンソ ハクマク サクセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 陳潤植 [著]
• Author Heading: 陳, 潤植 ジン, ユンシク
• Alternative Title: Studies on the formation of carbon nitride thin films using reactive plasma and ion beam
• Degree grantor/type: 長崎大学
• Date Granted: 平成11年3月31日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 博 (海) 甲第164号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-R788
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000341031; http://id.ndl.go.jp/bib/000000341031
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景と目的

1.2 窒化炭素薄膜に関する研究の現状