イオンビーム蒸着による炭素薄膜成長過程の研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: イオンビーム蒸着による炭素薄膜成長過程の研究
• タイトルよみ: イオン ビーム ジョウチャク ニ ヨル タンソ ハクマク セイチョウ カテイ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 大野秀樹 [著]
• 著者標目: 大野, 秀樹 オオノ, ヒデキ
• 数量: 冊
• 並列タイトル等: Study on mechanism of carbon film growth by low-energy mass-selected ion beam deposition
• 授与機関名: 明星大学
• 授与年月日: 平成7年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1995
• 報告番号: 甲第16号
• 学位: 博士 (物理学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-99-W250
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000344495; http://id.ndl.go.jp/bib/000000344495
• 整理区分コード: 213

目次

ABSTRACT

CONTENTS

1. INTRODUCTION

2. OUTLINE OF PREVIOUS STUDIES ON CARBON FILM GROWTH BY ION BEAM DEPOSITION (IBD) METHOD

3. APPARATUS FOR ION BEAM DEPOSITION (IBD)