イオンビーム蒸着による炭素薄膜成長過程の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: イオンビーム蒸着による炭素薄膜成長過程の研究
• Title Transcription: イオン ビーム ジョウチャク ニ ヨル タンソ ハクマク セイチョウ カテイ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 大野秀樹 [著]
• Author Heading: 大野, 秀樹 オオノ, ヒデキ
• Extent: 冊
• Alternative Title: Study on mechanism of carbon film growth by low-energy mass-selected ion beam deposition
• Degree grantor/type: 明星大学
• Date Granted: 平成7年3月24日
• Date Granted (W3CDTF): 1995
• Dissertation Number: 甲第16号
• Degree Type: 博士 (物理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-W250
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000344495; http://id.ndl.go.jp/bib/000000344495
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

ABSTRACT

CONTENTS

1. INTRODUCTION

2. OUTLINE OF PREVIOUS STUDIES ON CARBON FILM GROWTH BY ION BEAM DEPOSITION (IBD) METHOD

3. APPARATUS FOR ION BEAM DEPOSITION (IBD)