水溶液プロセスによる金属硫化物薄膜の新規作製法の開発

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 水溶液プロセスによる金属硫化物薄膜の新規作製法の開発
• タイトルよみ: スイヨウエキ プロセス ニ ヨル キンゾク リュウカブツ ハクマク ノ シンキ サクセイホウ ノ カイハツ
• 著者・編者: 山口浩一 [著]
• 著者標目: 山口, 浩一 ヤマグチ, コウイチ
• 数量: 冊
• 並列タイトル等: Development of novel techniques for preparing metal sulfide films by solution processes
• 授与機関名: 岐阜大学
• 授与年月日: 平成11年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 甲第104号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-99-X700
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000345848; http://id.ndl.go.jp/bib/000000345848
• 整理区分コード: 213

目次

要旨

目次

第1章 序論

第2章 水溶液プロセスによるCdS薄膜の新規作製法(I)―電気化学反応を利用したCdS薄膜の化学析出

2.1 緒言