水溶液プロセスによる金属硫化物薄膜の新規作製法の開発

• Material Type: 博士論文
• Title: 水溶液プロセスによる金属硫化物薄膜の新規作製法の開発
• Title Transcription: スイヨウエキ プロセス ニ ヨル キンゾク リュウカブツ ハクマク ノ シンキ サクセイホウ ノ カイハツ
• Author/Editor: 山口浩一 [著]
• Author Heading: 山口, 浩一 ヤマグチ, コウイチ
• Extent: 冊
• Alternative Title: Development of novel techniques for preparing metal sulfide films by solution processes
• Degree grantor/type: 岐阜大学
• Date Granted: 平成11年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第104号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-X700
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000345848; http://id.ndl.go.jp/bib/000000345848
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

要旨

目次

第1章 序論

第2章 水溶液プロセスによるCdS薄膜の新規作製法(I)―電気化学反応を利用したCdS薄膜の化学析出

2.1 緒言