Roles of electromagnetic waves on plasma uniformity in electron cyclotron resonance sources for plasma processing

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Roles of electromagnetic waves on plasma uniformity in electron cyclotron resonance sources for plasma processing
• 著者・編者: 上田洋子 [著]
• 著者標目: 上田, 洋子 ウエダ, ヨウコ
• 並列タイトル等: プラズマプロセス用電子サイクロトロン共鳴プラズマ源のプラズマ一様性における電磁波動の役割 プラズマ プロセスヨウ デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマゲン ノ プラズマ イチヨウセイ ニ オケル デンジ ハドウ ノ ヤクワリ
• 授与機関名: 九州大学
• 授与年月日: 平成11年10月21日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 乙第6929号
• 学位: 博士 (理学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2000-B790
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000349145; http://id.ndl.go.jp/bib/000000349145
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

1. Introduction and Review

1.1 References

2. Characteristics of ECR plasma uniformity produced by MSA and TE₁₁ mode

2.1 Introduction