Roles of electromagnetic waves on plasma uniformity in electron cyclotron resonance sources for plasma processing

• Material Type: 博士論文
• Title: Roles of electromagnetic waves on plasma uniformity in electron cyclotron resonance sources for plasma processing
• Author/Editor: 上田洋子 [著]
• Author Heading: 上田, 洋子 ウエダ, ヨウコ
• Alternative Title: プラズマプロセス用電子サイクロトロン共鳴プラズマ源のプラズマ一様性における電磁波動の役割 プラズマ プロセスヨウ デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマゲン ノ プラズマ イチヨウセイ ニ オケル デンジ ハドウ ノ ヤクワリ
• Degree grantor/type: 九州大学
• Date Granted: 平成11年10月21日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第6929号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-B790
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000349145; http://id.ndl.go.jp/bib/000000349145
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

1. Introduction and Review

1.1 References

2. Characteristics of ECR plasma uniformity produced by MSA and TE₁₁ mode

2.1 Introduction