Studies of electron cyclotron resonance plasma source and its application to conductive film formation

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies of electron cyclotron resonance plasma source and its application to conductive film formation
• 著者・編者: 西村浩志 [著]
• 著者標目: 西村, 浩志 ニシムラ, ヒロシ
• 並列タイトル等: 電子サイクロトロン共鳴プラズマ源及びその導電性膜形成への応用に関する研究 デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマゲン オヨビ ソノ ドウデンセイマク ケイセイ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 大阪大学
• 授与年月日: 平成12年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2000
• 報告番号: 乙第7977号
• 学位: 博士 (理学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2000-H587
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000354810; http://id.ndl.go.jp/bib/000000354810
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

§1 INTRODUCTION

§1.1 Microwave Generation and its Propagation

§1.2 Application of Microwaves as the Electric Waves

§2 STUDY OF PLASMA MEASUREMENT METHOD USING MICROWAVE