半導体集積回路製造用フォトレジスト材料およびプロセスに関する研究
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p1
序論
p1
参考文献
p21
第1編 g線/i線､KrF/ArFエキシマレーザリングラフィにおけるレジストの高解像度化とプロセスの高精度化
p22
第1章 ノボラック-ナフトキノンジアジド系ポジ型レジストの高解像度化
p22
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ハンドウタイ シュウセキ カイロ セイゾウヨウ フォトレジスト ザイリョウ オヨビ プロセス ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 岸村眞治 [著]
- 著者標目
- 岸村, 眞治 キシムラ, シンジ
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2001
- 出版年（W3CDTF）
- 2001
- 数量
- 1冊
- 授与機関名
- 大阪府立大学