半導体集積回路製造用フォトレジスト材料およびプロセスに関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 半導体集積回路製造用フォトレジスト材料およびプロセスに関する研究
• Title Transcription: ハンドウタイ シュウセキ カイロ セイゾウヨウ フォトレジスト ザイリョウ オヨビ プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 岸村眞治 [著]
• Author Heading: 岸村, 眞治 キシムラ, シンジ
• Publication, Distribution, etc.: [岸村眞治]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 大阪府立大学
• Date Granted: 平成13年3月10日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 乙第1029号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-B579
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000396193; http://id.ndl.go.jp/bib/000000396193
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

序論

参考文献

第1編 g線/i線､KrF/ArFエキシマレーザリングラフィにおけるレジストの高解像度化とプロセスの高精度化

第1章 ノボラック-ナフトキノンジアジド系ポジ型レジストの高解像度化