Studies on Spatial Distribution of Radicals in Electron Cyclotron Resonance Plasma

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on Spatial Distribution of Radicals in Electron Cyclotron Resonance Plasma
• 著者・編者: Masayuki Nakamura [著]
• 著者標目: 中村, 成志 ナカムラ, マサユキ
• 出版事項: [Masayuki Nakamura]
• 出版年月日等: 2001
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 電子サイクロトロン共鳴プラズマ中のラジカル空間分布に関する研究 デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマ チュウ ノ ラジカル クウカン ブンプ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成13年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 甲第5082号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-D239
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000398614; http://id.ndl.go.jp/bib/000000398614
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

Chapter 1.Introduction

1.1 Present state of plasma processing for ULSI devices

1.2 Previous studies on plasma chemistries

1.3 Purpose and composition of this thesis