半導体製造における酸化・拡散行程のシミュレーションに関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p3
内容梗概
p1
第1章 シリコンの熱酸化工程で発生する応力のシミュレーション
p1
1.1 はじめに
p1
1.2 シリコンの熱酸化モデル
p3
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル サンカ カクサン コウテイ ノ シミュレーション ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 内田哲也 [著]
- 著者標目
- 内田, 哲也 ウチダ, テツヤ
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2001
- 出版年(W3CDTF)
- 2001
- 数量
- 1冊
- 授与機関名
- 大阪大学