半導体製造における酸化・拡散行程のシミュレーションに関する研究
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Table of Contents
目次
p3
内容梗概
p1
第1章 シリコンの熱酸化工程で発生する応力のシミュレーション
p1
1.1 はじめに
p1
1.2 シリコンの熱酸化モデル
p3
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル サンカ カクサン コウテイ ノ シミュレーション ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 内田哲也 [著]
- Author Heading
- 内田, 哲也 ウチダ, テツヤ
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2001
- Publication Date (W3CDTF)
- 2001
- Extent
- 1冊
- Degree grantor/type
- 大阪大学