チタンシリサイドの選択的化学気相成長法と結晶性・表面モホロジーの制御に関する研究
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目次
Study of selective titanium silicide chemical vapor deposition and control of crystallinity/surface morphology
p1
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p1
第1章 序論
p1
1.1 研究の背景
p1
1.2 本研究の位置付け
p13
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- チタン シリサイド ノ センタクテキ カガク キソウ セイチョウホウ ト ケッショウセイ ヒョウメン モホロジー ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 斎藤國夫 [著]
- 著者標目
- 斎藤, 國夫 サイトウ, クニオ
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2001
- 出版年（W3CDTF）
- 2001
- 数量
- 1冊
- 授与機関名
- 電気通信大学