チタンシリサイドの選択的化学気相成長法と結晶性・表面モホロジーの制御に関する研究
Available with Digitized Contents Transmission Service
Find on the publisher's website
国立国会図書館デジタルコレクション
Available for viewing via the Digitized Contents Transmission Service for Individuals to official registered users of the NDL, who resides in Japan.
Search by Bookstore
Read this material in an accessible format.
Table of Contents
Study of selective titanium silicide chemical vapor deposition and control of crystallinity/surface morphology
p1
目次
p1
第1章 序論
p1
1.1 研究の背景
p1
1.2 本研究の位置付け
p13
Search by Bookstore
Read in Disability Resources
- Mina Search
- プレーンテキスト
Registered users of Mina Search can download or stream this content.
Bibliographic Record
You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.
- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- チタン シリサイド ノ センタクテキ カガク キソウ セイチョウホウ ト ケッショウセイ ヒョウメン モホロジー ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 斎藤國夫 [著]
- Author Heading
- 斎藤, 國夫 サイトウ, クニオ
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2001
- Publication Date (W3CDTF)
- 2001
- Extent
- 1冊
- Degree grantor/type
- 電気通信大学