チタンシリサイドの選択的化学気相成長法と結晶性・表面モホロジーの制御に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: チタンシリサイドの選択的化学気相成長法と結晶性・表面モホロジーの制御に関する研究
• Title Transcription: チタン シリサイド ノ センタクテキ カガク キソウ セイチョウホウ ト ケッショウセイ ヒョウメン モホロジー ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 斎藤國夫 [著]
• Author Heading: 斎藤, 國夫 サイトウ, クニオ
• Publication, Distribution, etc.: [斎藤國夫]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Degree Grantor: 電気通信大学
• Date Granted: 平成13年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 乙第65号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-H340
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000403734; http://id.ndl.go.jp/bib/000000403734
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Study of selective titanium silicide chemical vapor deposition and control of crystallinity/surface morphology

目次

第1章 序論

1.1 研究の背景

1.2 本研究の位置付け