Studies of Inductively Coupled Chlorine Plasma for Semiconductor Etching Processes Using Time-resolved Laser Spectroscopy

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies of Inductively Coupled Chlorine Plasma for Semiconductor Etching Processes Using Time-resolved Laser Spectroscopy
• 著者・編者: 熊谷慎也 [著]
• 著者標目: 熊谷, 慎也 クマガイ, シンヤ
• 出版事項: [熊谷慎也]
• 出版年月日等: 2001
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 時間分解レーザー分光法を用いた半導体エッチングプロセスのための誘導結合塩素プラズマの研究 ジカン ブンカイ レーザー ブンコウホウ オ モチイタ ハンドウタイ エッチング プロセス ノ タメ ノ ユウドウ ケツゴウ エンソ プラズマ ノ ケンキュウ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成13年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 甲第7914号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-N693
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000409452; http://id.ndl.go.jp/bib/000000409452
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

1 Introduction

1.1 Background

1.2 Recent problems in Cl₂ plasma etching and purpose of this dissertation

1.3 Outline of this thesis