Studies of Inductively Coupled Chlorine Plasma for Semiconductor Etching Processes Using Time-resolved Laser Spectroscopy
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Table of Contents
Contents
p1
1 Introduction
p4
1.1 Background
p4
1.2 Recent problems in Cl₂ plasma etching and purpose of this dissertation
p9
1.3 Outline of this thesis
p17
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Author/Editor
- 熊谷慎也 [著]
- Author Heading
- 熊谷, 慎也 クマガイ, シンヤ
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2001
- Publication Date (W3CDTF)
- 2001
- Extent
- 1冊
- Alternative Title
- 時間分解レーザー分光法を用いた半導体エッチングプロセスのための誘導結合塩素プラズマの研究 ジカン ブンカイ レーザー ブンコウホウ オ モチイタ ハンドウタイ エッチング プロセス ノ タメ ノ ユウドウ ケツゴウ エンソ プラズマ ノ ケンキュウ
- Degree grantor/type
- 東北大学