Studies of Inductively Coupled Chlorine Plasma for Semiconductor Etching Processes Using Time-resolved Laser Spectroscopy

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies of Inductively Coupled Chlorine Plasma for Semiconductor Etching Processes Using Time-resolved Laser Spectroscopy
• Author/Editor: 熊谷慎也 [著]
• Author Heading: 熊谷, 慎也 クマガイ, シンヤ
• Publication, Distribution, etc.: [熊谷慎也]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 時間分解レーザー分光法を用いた半導体エッチングプロセスのための誘導結合塩素プラズマの研究 ジカン ブンカイ レーザー ブンコウホウ オ モチイタ ハンドウタイ エッチング プロセス ノ タメ ノ ユウドウ ケツゴウ エンソ プラズマ ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成13年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第7914号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-N693
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000409452; http://id.ndl.go.jp/bib/000000409452
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

1 Introduction

1.1 Background

1.2 Recent problems in Cl₂ plasma etching and purpose of this dissertation

1.3 Outline of this thesis