Studies on Electrical Properties of Low-temperature Epitaxial Si Films Deposited Using a Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on Electrical Properties of Low-temperature Epitaxial Si Films Deposited Using a Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma
• 著者・編者: Junli Wang [著]
• 著者標目: 王, 俊利 ワン, ジュンリ
• 出版事項: [Junli Wang]
• 出版年月日等: 2001
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタリングを用いて堆積した低温エピタキシャルSi薄膜の電気特性に関する研究 デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマ スパッタリング オ モチイテ タイセキ シタ テイオン エピタキシャル Si ハクマク ノ デンキ トクセイ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 九州大学
• 授与年月日: 平成13年9月21日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 甲第5703号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-P304
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000410638; http://id.ndl.go.jp/bib/000000410638
• 整理区分コード: 213