Studies on Electrical Properties of Low-temperature Epitaxial Si Films Deposited Using a Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma

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Material Type: 博士論文
Title: Studies on Electrical Properties of Low-temperature Epitaxial Si Films Deposited Using a Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma
Author/Editor: Junli Wang [著]
Author Heading: 王, 俊利ワン, ジュンリ
Publication, Distribution, etc.: [Junli Wang]
Publication Date: 2001
Publication Date (W3CDTF): 2001
Extent: 1冊
Alternative Title: 電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタリングを用いて堆積した低温エピタキシャルSi薄膜の電気特性に関する研究デンシサイクロトロンキョウメイプラズマスパッタリングオモチイテタイセキシタテイオンエピタキシャル Si ハクマクノデンキトクセイニカンスルケンキュウ
Degree grantor/type: 九州大学
Date Granted: 平成13年9月21日
Date Granted (W3CDTF): 2001
Dissertation Number: 甲第5703号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: eng
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2001-P304
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000410638
http://id.ndl.go.jp/bib/000000410638
Bibliographic Record Category (NDL): 213