Study of scaled BiCMOS process and device technology at low supply voltage

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Study of scaled BiCMOS process and device technology at low supply voltage
• 著者・編者: Hiroshi Momose [著]
• 著者標目: 百瀬, 啓 モモセ, ヒロシ
• 出版事項: [Hiroshi Momose]
• 出版年月日等: [2000]
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 低電源電圧動作微細BiCMOSプロセス・デバイス技術の研究 テイデンゲン デンアツ ドウサ ビサイ BiCMOS プロセス デバイス ギジュツ ノ ケンキュウ
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成12年5月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2000
• 報告番号: 乙第3446号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-S365
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000415843; http://id.ndl.go.jp/bib/000000415843
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

TABLE OF CONTENTS

Preface

Chapter1 Overview and Objectives of This Study

1-1 Background