Study of scaled BiCMOS process and device technology at low supply voltage

• Material Type: 博士論文
• Title: Study of scaled BiCMOS process and device technology at low supply voltage
• Author/Editor: Hiroshi Momose [著]
• Author Heading: 百瀬, 啓 モモセ, ヒロシ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroshi Momose]
• Publication Date: [2000]
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 低電源電圧動作微細BiCMOSプロセス・デバイス技術の研究 テイデンゲン デンアツ ドウサ ビサイ BiCMOS プロセス デバイス ギジュツ ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成12年5月31日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 乙第3446号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-S365
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000415843; http://id.ndl.go.jp/bib/000000415843
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

TABLE OF CONTENTS

Preface

Chapter1 Overview and Objectives of This Study

1-1 Background