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博士論文

A study of Si/SiO2 interfacial properties for ULSI fabrication

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A study of Si/SiO2 interfacial properties for ULSI fabrication

国立国会図書館請求記号
UT51-2001-S418
国立国会図書館書誌ID
000000415983
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3191882
資料種別
博士論文
著者
土明正勝 [著]
出版者
[土明正勝]
出版年
[2001]
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
東京工業大学,博士 (工学)
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目次

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  • 論文目録

  • Contents

    p2

  • 1 Si-SiO₂ Systems and Si/SiO₂ Interfaces in ULSI

    p5

  • 1-1. Background

    p6

  • 1-2. Objective

    p9

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
土明正勝 [著]
著者標目
土明, 正勝 ツチアキ, マサカツ
出版事項
出版年月日等
[2001]
出版年(W3CDTF)
2001
数量
1冊
並列タイトル等
大規模集積化回路製造に関わるSi/SiO2界面特性の研究 ダイキボ シュウセキカ カイロ セイゾウ ニ カカワル Si
授与機関名
東京工業大学