A study of Si/SiO2 interfacial properties for ULSI fabrication

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: A study of Si/SiO2 interfacial properties for ULSI fabrication
• 著者・編者: 土明正勝 [著]
• 著者標目: 土明, 正勝 ツチアキ, マサカツ
• 出版事項: [土明正勝]
• 出版年月日等: [2001]
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 大規模集積化回路製造に関わるSi/SiO2界面特性の研究 ダイキボ シュウセキカ カイロ セイゾウ ニ カカワル Si
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成13年1月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 乙第3499号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-S418
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000415983; http://id.ndl.go.jp/bib/000000415983
• 整理区分コード: 213

• DOI: 10.11501/3191882; https://doi.org/10.11501/3191882
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3191882; https://dl.ndl.go.jp/pid/3191882
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（障害者向け資料：レベル2）: プレーンテキスト
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 製作者: 国立国会図書館
• 受理日（W3CDTF）: 2011-12-06T14:23:01+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 請求記号: UT51-2001-S418
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

論文目録

Contents

1 Si-SiO₂ Systems and Si/SiO₂ Interfaces in ULSI

1-1. Background

1-2. Objective