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高性能化プロセス技術 : プロシーディング 3 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.6)

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高性能化プロセス技術 : プロシーディング. 3(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.6)

国立国会図書館請求記号
ND371-E3
国立国会図書館書誌ID
000001922594
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13650381
資料種別
図書
著者
半導体基盤技術研究会 編
出版者
リアライズ社
出版年
1988.1
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
275p ; 30cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

コーディネーター: 大見忠弘, 新田雄久会期・会場: 昭和63年1月14日~16日 東京発明会館ホール

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
コウセイノウカ プロセス ギジュツ : プロシーディング
巻次・部編番号
3
著者・編者
半導体基盤技術研究会 編
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1988.1
出版年(W3CDTF)
1988