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高性能化プロセス技術 : プロシーディング 3 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.6)

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国立国会図書館デジタルコレクション

高性能化プロセス技術 : プロシーディング. 3(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.6)

Call No. (NDL)
ND371-E3
Bibliographic ID of National Diet Library
000001922594
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/13650381
Material type
図書
Author
半導体基盤技術研究会 編
Publisher
リアライズ社
Publication date
1988.1
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
275p ; 30cm
NDC
549.8
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Notes on use

Note (General)：

コーディネーター: 大見忠弘, 新田雄久会期・会場: 昭和63年1月14日～16日 東京発明会館ホール

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Paper Digital

Material Type
図書
Title
高性能化プロセス技術 : プロシーディング
Title Transcription
コウセイノウカ プロセス ギジュツ : プロシーディング
Volume
3
Author/Editor
半導体基盤技術研究会 編
Series Title
超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.6
Author Heading
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
東京 : リアライズ社
Publication Date
1988.1
Publication Date (W3CDTF)
1988