サブミクロンULSIプロセス技術 : Proceeding. 2(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.8)

• 資料種別: 図書
• タイトル: サブミクロンULSIプロセス技術 : Proceeding
• タイトルよみ: サブミクロン ユーエルエスアイ プロセス ギジュツ
• 巻次・部編番号: 2
• 著者・編者: 半導体基盤技術研究会 編
• シリーズタイトル: 超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.8
• 著者標目: 半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
• 出版事項: [東京] : [半導体基盤技術研究会]
• 出版年月日等: 1989.1
• 出版年（W3CDTF）: 1989
• 数量: 304p
• 大きさ: 30cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 集積回路 シュウセキカイロ ( 00572448 )典拠
• NDC8版: 549.7
• NDLC: ND386
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 英語書名: Submicron ULSI process technology 2 英文併記; 会期・会場: 平成元年1月26～28日 日仏会館
• 書誌注記: 付: 参考文献
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND386-E145
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000002110688; http://id.ndl.go.jp/bib/000002110688
• 全国書誌番号: 91045323
• 目録規則: 日本目録規則新版予備版
• 整理区分コード: 111