サブミクロンULSIプロセス技術 : Proceeding. 2(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.8)

• Material Type: 図書
• Title: サブミクロンULSIプロセス技術 : Proceeding
• Title Transcription: サブミクロン ユーエルエスアイ プロセス ギジュツ
• Volume: 2
• Author/Editor: 半導体基盤技術研究会 編
• Series Title: 超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.8
• Author Heading: 半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : [半導体基盤技術研究会]
• Publication Date: 1989.1
• Publication Date (W3CDTF): 1989
• Extent: 304p
• Size: 30cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 集積回路 シュウセキカイロ ( 00572448 )Authorities
• NDC 8th ed.: 549.7
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 英語書名: Submicron ULSI process technology 2 英文併記; 会期・会場: 平成元年1月26～28日 日仏会館
• Note (Bibliography): 付: 参考文献
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-E145
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000002110688; http://id.ndl.go.jp/bib/000002110688
• National Bibliography No. (JPNO): 91045323
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules, Preliminary New Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111