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半導体プロセスを革新する新しいフッ素化学 : Proceeding (超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.11)

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半導体プロセスを革新する新しいフッ素化学 : Proceeding(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; no.11)

国立国会図書館請求記号
ND371-E87
国立国会図書館書誌ID
000002110690
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649501
資料種別
図書
著者
半導体基盤技術研究会 編
出版者
半導体基盤技術研究会
出版年
1990.7
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
329p ; 30cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

英語書名: Innovative fluorine technology for semiconductor ULSI processing 英文併記会期・会場: 1990年7月5日~7日 経団連会館

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ プロセス オ カクシンスル アタラシイ フッソ カガク
著者・編者
半導体基盤技術研究会 編
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1990.7
出版年(W3CDTF)
1990
数量
329p