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シリコン結晶の高性能化 : Proceeding 3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質) (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第19回)

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シリコン結晶の高性能化 : Proceeding. 3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質)

(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第19回)

国立国会図書館請求記号
ND371-E150
国立国会図書館書誌ID
000002272848
資料種別
図書
著者
UCS半導体基盤技術研究会 編
出版者
UCS半導体基盤技術研究会
出版年
1992.9
資料形態
ページ数・大きさ等
294p ; 30cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

英語書名: Advanced silicon technology for ULSI 英文併記期日・会場: 1992年9月29日・30日 全電通ホール

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
シリコン ケッショウ ノ コウセイノウカ
巻次・部編番号
3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質)
著者・編者
UCS半導体基盤技術研究会 編
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1992.9
出版年(W3CDTF)
1992