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シリコン結晶の高性能化 : Proceeding 3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質) (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第19回)

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シリコン結晶の高性能化 : Proceeding. 3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質)(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第19回)

Call No. (NDL)
ND371-E150
Bibliographic ID of National Diet Library
000002272848
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/13664384
Material type
図書
Author
UCS半導体基盤技術研究会 編
Publisher
UCS半導体基盤技術研究会
Publication date
1992.9
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
294p ; 30cm
NDC
549.8
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Notes on use

Note (General)：

英語書名: Advanced silicon technology for ULSI 英文併記期日・会場: 1992年9月29日・30日 全電通ホール

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Paper Digital

Material Type
図書
Title
シリコン結晶の高性能化 : Proceeding
Title Transcription
シリコン ケッショウ ノ コウセイノウカ
Volume
3 (超LSI技術に要求されるシリコン結晶品質、ウエハ加工品質)
Author/Editor
UCS半導体基盤技術研究会 編
Series Title
超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第19回
Author Heading
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
東京 : UCS半導体基盤技術研究会
Publication Date
1992.9
Publication Date (W3CDTF)
1992