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半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding 2 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第18回)

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半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding. 2(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第18回)

国立国会図書館請求記号
ND371-E154
国立国会図書館書誌ID
000002272853
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649469
資料種別
図書
著者
UCS半導体基盤技術研究会 編
出版者
UCS半導体基盤技術研究会
出版年
1992.6
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
221p ; 30cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

英語書名: Physics and chemistry of speciality gases for advanced semiconductor processings 2 英文併載 2の副書名: 半導体プロセスの高性能化の決め手となる最先端ガス技術期日・会場: 1992年6月26日・27日 全...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ プロセスヨウ トクシュ ザイリョウ ガス ノ ブツリ カガク
巻次・部編番号
2
著者・編者
UCS半導体基盤技術研究会 編
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1992.6
出版年(W3CDTF)
1992