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半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding 2 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第18回)

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国立国会図書館デジタルコレクション

半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding. 2(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第18回)

Call No. (NDL)
ND371-E154
Bibliographic ID of National Diet Library
000002272853
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/13649469
Material type
図書
Author
UCS半導体基盤技術研究会 編
Publisher
UCS半導体基盤技術研究会
Publication date
1992.6
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
221p ; 30cm
NDC
549.8
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Notes on use

Note (General)：

英語書名: Physics and chemistry of speciality gases for advanced semiconductor processings 2 英文併載 2の副書名: 半導体プロセスの高性能化の決め手となる最先端ガス技術期日・会場: 1992年6月26日・27日 全...

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Paper Digital

Material Type
図書
Title
半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding
Title Transcription
ハンドウタイ プロセスヨウ トクシュ ザイリョウ ガス ノ ブツリ カガク
Volume
2
Author/Editor
UCS半導体基盤技術研究会 編
Series Title
超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第18回
Author Heading
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
東京 : UCS半導体基盤技術研究会
Publication Date
1992.6
Publication Date (W3CDTF)
1992