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書誌情報
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- 資料種別
- 図書
- 著者・編者
- organized by ISSP '91 Committeesupported by the Study Committee of Sputtering & Plasma Processes, Japan Technology Transfer Associationwith the cooperation of the Japan Society of Applied Physics ... [et al.]
- 出版年月日等
- 1991
- 出版年(W3CDTF)
- 1991
- 数量
- ii, 161 p. : ill.
- 大きさ
- 30 cm
- 出版地(国名コード)
- JP
- 本文の言語コード
- eng