超々純水製造技術と評価技術 : Proceeding (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.4)

超々純水製造技術と評価技術 : Proceeding

(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.4)

国立国会図書館請求記号: ND371-G8
国立国会図書館書誌ID: 000002467107

資料種別: 図書

著者: 半導体基盤技術研究会編

出版者: 半導体基盤技術研究会

出版年: 1990.5

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 105p ; 30cm

NDC: 549.8

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資料に関する注記

一般注記：: 奥付の書名 (誤植) : 超々純水製造技術と評価方法期日・会場: 1990年5月11日東京日仏会館ホール

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
タイトル: 超々純水製造技術と評価技術 : Proceeding
タイトルよみ: チョウチョウジュンスイセイゾウギジュツトヒョウカギジュツ
著者・編者: 半導体基盤技術研究会編
シリーズタイトル: 超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.4
著者標目: 半導体基盤技術研究会ハンドウタイキバンギジュツケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版事項: 東京 : 半導体基盤技術研究会
出版年月日等: 1990.5
出版年（W3CDTF）: 1990
数量: 105p
大きさ: 30cm
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
件名標目: 半導体--会議録ハンドウタイカイギロク ( 00611070 )典拠
洗浄剤--会議録センジョウザイカイギロク ( 00601215 )典拠
水処理--会議録ミズショリカイギロク ( 00599084 )典拠
NDC8版: 549.8
NDLC: ND371
対象利用者: 一般
一般注記: 奥付の書名 (誤植) : 超々純水製造技術と評価方法
期日・会場: 1990年5月11日東京日仏会館ホール
書誌注記: 付: 参考文献
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: ND371-G8
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000002467107
http://id.ndl.go.jp/bib/000002467107
全国書誌番号: 96029475
目録規則: 日本目録規則新版予備版
整理区分コード: 111