Proceedings : the Third International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, ISSP '95

著者: sponsored by the Study Committee of Sputtering & Plasma Processes, Japan Technology Transfer Associationほか

資料に関する注記

一般注記：: "Symposium program" and 4 papers inserted.Includes bibliographical references.ISSN: 0917-2440

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資料種別: 図書
タイトル: Proceedings : the Third International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, ISSP '95
著者・編者: sponsored by the Study Committee of Sputtering & Plasma Processes, Japan Technology Transfer Association
with the cooperation of the Japan Society of Applied Physics ... [et al.]
出版事項: [Tokyo?] : the Committee
出版年月日等: 1995
出版年（W3CDTF）: 1995
数量: vi, 442 p. : ill.
大きさ: 30 cm
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: M15
MC141
対象利用者: 一般
一般注記: "Symposium program" and 4 papers inserted.Includes bibliographical references.ISSN: 0917-2440
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M15-A9664
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000002471305
http://id.ndl.go.jp/bib/000002471305
全国書誌番号: 96033673
目録規則: 日本目録規則新版予備版
整理区分コード: 113