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表面反応を用いる薄膜・プロセス技術の基礎 (薄膜・表面物理基礎講座 ; 第24回) (AP ; 952328)

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表面反応を用いる薄膜・プロセス技術の基礎

(薄膜・表面物理基礎講座 ; 第24回) (AP ; 952328)

国立国会図書館請求記号
ND371-G59
国立国会図書館書誌ID
000002595853
資料種別
図書
著者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
出版者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
出版年
1995.11
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
131p ; 26cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記：

会期・会場: 1995年11月7日-9日 早稲田大学理工学部

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目次

  • １１月７日（火）

  • １３：００ー１３：３０　Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｏｒｙ　ｔａｌｋ 　なぜ表面反応か/ １

    真下　正夫（東芝）

  • １３：３０ー１５：１５　表面反応・薄膜成長の観察/ ５

    上井　邦彦（ＮＴＴ）||小林　直樹（ＮＴＴ）

  • １５：３０ー１７：１５　中性ビーム技術/ １７

    西山　岩男（ＮＥＣ）

  • １１月８日（水）

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書誌情報

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紙

資料種別
図書
タイトル
表面反応を用いる薄膜・プロセス技術の基礎
タイトルよみ
ヒョウメン ハンノウ オ モチイル ハクマク プロセス ギジュツ ノ キソ
著者・編者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
シリーズタイトル
薄膜・表面物理基礎講座 ; 第24回
AP ; 952328
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版事項
東京 : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
出版年月日等
1995.11
出版年（W3CDTF）
1995
数量
131p