図書

新しい半導体製造プロセスと材料

図書を表すアイコン

新しい半導体製造プロセスと材料

国立国会図書館請求記号
ND371-G146
国立国会図書館書誌ID
000002896677
資料種別
図書
著者
大見忠弘 監修
出版者
シーエムシー
出版年
2000.5
資料形態
ページ数・大きさ等
274p ; 27cm
NDC
549.8
すべて見る

書店で探す

目次

  • 目次

  • 第1章 序論

    大見忠弘

  •  半導体固有の製造技術創出:半導体技術はまさにこれから

  • 1 はじめに/ 1

  • 2 ウルトラクリーンテクノロジー提唱と確立/ 1

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

関東

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書店で探す

出版書誌データベース Books から購入できる書店を探す

『Books』は各出版社から提供された情報による出版業界のデータベースです。 現在入手可能な紙の本と電子書籍を検索することができます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
ISBN
4-88231-276-X
タイトルよみ
アタラシイ ハンドウタイ セイゾウ プロセス ト ザイリョウ
著者・編者
大見忠弘 監修
著者標目
大見, 忠弘, 1939- オオミ, タダヒロ, 1939- ( 00406390 )典拠
出版年月日等
2000.5
出版年(W3CDTF)
2000
数量
274p